Въпреки активното закупуване от китайските производители на чипове на чуждестранно оборудване, което все още не е подложено на санкции, местната полупроводникова промишленост все още не може да се похвали с производствена база, достатъчна за по-нататъшен напредък. Цялото модерно оборудване, произведено в Китай е съсредоточено в изследователски лаборатории, а не в промишлеността.

Ли Джинсян, заместник-председател на Китайската асоциация на производителите на електронно оборудване, е заявил на събитие в индустрията през август, че полупроводниковата индустрия трябва да измине дълъг път, преди да намали зависимостта си от вносно оборудване.

Може би на това убеждение се основават и заключенията на САЩ, които започнаха собствено разследване след пускането на пазара на смартфона Huawei Mate 60 Pro, базиран на китайския 7-нанометров (nm) процесор HiSilicon Kirin 9000s, произведен под санкции. Според министъра на търговията на САЩ Джина Реймондо разследването е установило, че въз основа на наличните в САЩ доказателства Китай няма възможност да произвежда масово 7 nm чипове.

Китай от много години се опитва да разработи свои собствени усъвършенствани литографски системи, но най-добрите модели на изцяло китайско оборудване от този тип, които се произвеждат от базираната в Шанхай компания SMEE, сега могат да работят само по 90-нанометрови (nm) литографски стандарти, които бяха актуални в периода 2000-2004 година. В това отношение такъв скенер отстъпва с един порядък на възможностите на японските и холандските образци. Въпреки това, китайските експерти твърдят, че би било несправедливо вината за изоставането да се хвърля върху същата компания SMEE.

Холандската компания ASML е лидер на световния пазар в доставката на такива литографски скенери, но властите ѝ забраниха да доставя такова оборудване на китайски клиенти още през 2019 година, а сега се подготвят нови санкции, които да разширят забраната и върху по-модерно оборудване.

Системата за литография се състои от много компоненти, които се доставят от трети страни, а доставчиците на SMEE също чувствително изостават от западните си конкуренти. Самата компания ще започне да доставя литографски системи, способни да работят по 28 nm технология едва в края на тази годината. Експертите смятат, че за да се премине отвъд възможността за производство на 7 nm чипове с помощта на байпасни технологии, китайските доставчици трябва да постигнат значителен напредък във всички ключови компоненти.

Според анализатори, ще минат поне 4 или 5 години преди в Китай да се появи система за EUV литография, която да може да се произвежда масово, благодарение на усилията на местните разработчици на оборудване, които разчитат изключително на местни доставчици на компоненти.