Изкуственият интелект намира приложение не само на етапа на разработване на чипове и софтуер, но и при създаването на инструментариума за производство на чипове. Като минимум съвместната работа между Nvidia и Synopsys даде възможност за забележимо ускоряване на процеса на разработване на фотомаските. Както и за въвеждане на коригиращи действия в технологичните процеси при производството на чиповете чрез метода на оптичната литография.

В уеб сайта на Nvidia се появи прессъобщение. В него се казва, че в сътрудничество с разработчика на софтуер за проектиране на чипове и инструменти Synopsys компанията е използвала изкуствен интелект. Предимно за да оптимизира работата на софтуерната платформа cuLitho. Тя вече е използвала изчислителната мощ на GPU, за да оптимизира разработването на фотомаски при производството на чипове. Една система с 350 ускорителя Nvidia H100 може да замени център за данни с 40 000 централни процесора. Като едновременно с това осезателно намалява нуждата от пространство и консумацията на енергия.

TSMC, която е най-големият производител на чипове по договор, внедрява в процесите си решенията cuLitho на Nvidia. Те бяха представени миналата година. Synopsys също така мигрира своя софтуер Proteus за изчисляване на оптичната корекция за близостта при проектиране на фотомаски към платформата cuLitho на Nvidia. По този начин се постига два пъти по-голямо ускорение в сравнение с използването само на изчислителните ресурси от централни процесори. В бъдеще тези решения ще бъдат поддържани от фамилията ускорители Blackwell на Nvidia.