Rapidus, млада японска компания, която изгражда фабрика за 2 nm чипове в Хокайдо, ще получи първото си оборудване за екстремна ултравиолетова литография (EUV) от холандската компания ASML през декември. Това ще даде възможност за започване на експериментално производство на чипове към април 2025 г., а целта е масово производство на полупроводници към 2027 г. Rapidus планира да изгради втора фабрика за производство на 1,4 nm чипове. Компанията води преговори с 40 клиенти, а NVIDIA проявява интерес към нейните продукти.

Японската компания Rapidus изгражда завод за полупроводници в Титосе, Хокайдо. Целта е да се произвеждат масово 2nm чипове до 2027 г. Оборудването за екстремна ултравиолетова литография (EUV), струващо десетки милиарди йени, играе ключова роля в проекта.

Rapidus е поръчала EUV сканера на холандската компания ASML. Той ще пристигне на летището на остров Хокайдо в средата на декември. Планира се да бъдат използвани няколко товарни самолета, за да се транспортира това голямо по размер оборудване. EUV машината се внася за първи път в Япония, което ще бъде важен етап в развитието на местното производство на полупроводници.

Изпратените в Япония инженери на ASML ще сглобят и конфигурират оборудването, което ще позволи на Rapidus да започне пилотното производство на 2nm чипове още през месец април следващата година. ASML също така планира да открие сервизен център наблизо за безпроблемна работа на своите скенери. Rapidus възнамерява да инсталира няколко EUV машини в бъдеще.

Строителството на първия завод на Rapidus в Хокайдо, наречен „IIM-1“, започва през септември 2023 г. Към октомври съоръжението е достигнало 63% готовност. През ноември в него са били заети около 4 400 работници. Очаква се в съоръжението да бъдат разположени общо над 200 единици оборудване, включително машини за EUV. Ако проектът се окаже успешен, компанията ще изгради втора фабрика, фокусирана върху 1,4 nm чипове.

Rapidus води преговори с 40 компании за доставка на 2nm чипове. Имената на новите клиенти ще бъдат обявени през следващата година.