Зеленоградският нанотехнологичен център (ЗНТЦ) завърши третия етап от опитно-конструкторските си работи по създаването на първия литограф за обработка на 200-милиметрови силициеви плочи по 130-нанометров (130-nm) технологичен процес. В момента опитният образец преминава през вътрешни инженерни и приемателни изпитания, като до реалното му използване в заводи за масово производство предстои да минат години.

Въпреки че в местните среди оборудването се определя като „напълно руски 130-нм литограф“, наличните технически документи разкриват по-сложно международно сътрудничество.

Кой стои зад разработката и как са разпределени задачите

Водещ изпълнител на проекта е ЗНТЦ, но ключовите компоненти са дело на партньорски организации:

• „Планар“ (Беларус): Разработила е самата литографска система, отговаря за производството на механичните възли и компоненти, както и за първоначалната пусково-наладъчна дейност на прототипа.
• „Ласард“ (Русия): Разработила е ексимерните лазери за инсталацията с дължина на вълната 193 nm.
• ЗНТЦ (Русия): Отговаря за цялостното проектиране на системата, технологичното оборудване, изчисленията на прожекционния обектив, както и за моделирането и отработването на технологичния процес.

Предизвикателства пред отработването на процеса

Преминаването към физическите изпитания на съоръжението изисква прецизна настройка на голям брой параметри. Процесът по внедряване включва подбор на:

• Подходящ фоторезист и точна доза на експониране;
• Фокус и технологичен прозорец;
• Фотошаблони и прецизно съвместяване на слоевете;
• Условия за проявяване и стриктни температурни режими.

От ЗНТЦ предстои да доработят конструкцията и да проверят всички ключови характеристики — от качеството на формиране на изображението и точността на съвместяване до надеждността и производителността. Тази фаза се очаква да продължи повече от година.

Исторически контекст и изоставане

За сравнение, световните лидери в индустрията като Intel и AMD започнаха да произвеждат търговски процесори по 130-нанометров технологичен процес още през 2001–2002 година. Това означава, че новата съвместна разработка изостава от съвременните стандарти и литографи за авангардни чипове с около 25 години.

Въпреки това, 130-нанометровата технология все още намира приложение в производството на базови микроконтролери, автомобилна електроника, захранващи схеми и компоненти за промишлено оборудване, където не се изисква висока плътност на транзисторите.