Canon е на половин крачка от осъществяването на тиха революция на пазара за производство на полупроводници – главният изпълнителен директор на японския технологичен гигант заяви, че новите машини за производство на чипове ще бъдат десет пъти – с един порядък по-евтини от най-напредналите в техническо отношение EUV-системи на холандската ASML, струващи стотици милиони долари всяка, които в момента играят ключова роля в технологичната конфронтация между САЩ и Китай.

Става дума за същите машини FPA-1200NZ2C, на базата на Nanoimprint lithography (известна още като наноотпечатна литография или релефен печат, embossing) – накратко, това е една по-достъпна алтернатива на познатата и добре изпитана фотолитография, която е основната за производството на полупроводници.

„Цената ще бъде с порядък по-ниска от тази на EUV машините на ASML“, заяви в скорошно интервю 88-годишният Фуджио Митарай, който е в третия си пореден мандат като президент на Canon, след като се оттегли от оперативното управление през 2016 г.

В същото време той отбеляза, че все още не е взето окончателно решение за цената.

В момента само няколко големи играчи могат да си позволят да инвестират в скъпото холандско оборудване, което се следи отблизо заради водещия му статут във веригата за доставка на технологии. От друга страна, Canon има всички шансове да сложи край на монопола на холандската ASML, чието оборудване се използва от TSMC и Samsung за производство на най-модерните чипове – същите 3nm Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro и iPhone 15 Pro Max). Новите литографски машини на Canon са потенциална възможност за намаляване на зависимостта от EUV технологията и шанс за по-малките играчи да се борят за своето място под слънцето на силно конкурентния пазар на полупроводници.

Да напомним, че както беше споменато по-рано, ASML не изнася оборудване за Китай поради действащите санкции – САЩ си сътрудничат с Япония и Нидерландия, за да попречат на КНР да получи достъп до модерните полупроводникови технологии. В същото време Bloomberg наскоро съобщи, че китайската SMIC е използвала оборудване от нидерландската ASML за производството на авангарден процесор за смартфон на Huawei.

Интересно е, че досега технологията за нанопечатна литография, която изобщо не включва фотолитография, не е била санкционирана. В същото време Canon е съвсем наясно с голямата вероятност от ограничения на износа, които да ограничат допълнително военно-технологичния напредък на Китай.

„Разбирам, че износът на всичко, което надхвърля 14 nm технология, е забранен, така че не мисля, че ще можем да продаваме оборудване на Китай“. Fudio Mitarai, главен изпълнителен директор и президент на Canon.

Ключовата разлика при нанопечатната литография е използването на натиск (вместо светлина) за създаване на желания модел върху силициевата пластина. Новите машини на Canon са в състояние да произвеждат процесори, които са идентични с 5 nm чипове, произведени с помощта на по-напредналата технология на екстремната ултравиолетова литография (EUV), която е доминирана от настоящия лидер и фактически монополист – вече споменатата ASML Holding NV. Още в следващото поколение Canon планира да премине към 2nm (сега TSMC и южнокорейската Samsung – два от най-големите производители на полупроводници – имат за цел да започнат производство на 2nm продукти през 2025 г.) и значително да подобри собствените си позиции.