По информация на Bloomberg японската компания Canon е обявила в началото на тази седмица, че е започнала да доставя съвсем нов вид литографско оборудване, което дава възможност да се създават чипове с параметри, сравними с тези на 5 nm продукти, произведени с оборудване от конкурентните доставчици. Canon възнамерява да продължи да усъвършенства своята технология за литография с наноотпечатване, за да може с нея да се произвеждат и 2 nm полупроводникови продукти.

Технологията литографска технология на Canon не включва експониране на фотографски шаблони, както е в класическия случай на оптичната литография. През 2014 г. Canon придоби разработчика на този метод за „отпечатване“ на интегрални схеми, Molecular Imprints, и оттогава посвети почти десетилетие на довеждането на технологията до състояние на търговска готовност. Kioxia стана един от партньорите на Canon в тестването на този тип оборудване за производство на чипове памет и се смята, че това технологично решение ще осигури по-евтина алтернатива на оптичната EUV литография.

Представителите на Canon все още не са готови да кажат дали този тип оборудване попада в обхвата на ограниченията за износ в Китай, които японските власти приеха в края на юли тази година под натиска на американските си партньори. Но по принцип китайските компании разполагат с известно време, за да закупят необходимото японско оборудване законно.